真空等離子清洗機(jī)是在密封容器中設(shè)置兩個(gè)電極形成電磁場，用真空泵實(shí)現(xiàn)一定的真空度，隨著氣體越來越稀薄，分子間距及分子或離子的自由運(yùn)動(dòng)距離也越來越長，受磁場作用，發(fā)生碰撞而形成等離子體，同時(shí)會(huì)發(fā)生輝光。等離子體在電磁場內(nèi)空間運(yùn)動(dòng)，并轟擊被處理物體表面，從而達(dá)到表面處理、清洗和刻蝕的效果。
傳統(tǒng)的清洗方法采用的是化學(xué)清洗的方法，如用雙氧水去除硅片表面的顆粒和有機(jī)物；用鹽酸去除表面金屬；用硫酸去除表面金屬和有機(jī)物。濕法清洗作為傳統(tǒng)的清洗方法依然還被應(yīng)用，但是與現(xiàn)在的等離子技術(shù)應(yīng)用相比還是有很多缺點(diǎn)：
1、清洗不*，需反復(fù)清洗；
2、污染環(huán)境，需對(duì)廢液進(jìn)行處理；
3、不能控制；
4、容易引入新的雜質(zhì)；
5、對(duì)殘余物不能處理；
6、消耗大量的酸和水；
真空等離子清洗機(jī)是因壓等離子技術(shù)的突破與射頻低溫等離子體技術(shù)使用，被廣泛使用于各種行業(yè)范疇，尤其是在微電子工業(yè)中的使用使清洗更加快速和便利。等離子體清洗進(jìn)程不會(huì)發(fā)生污染，工藝進(jìn)程是安全、環(huán)保、綠色、創(chuàng)新使用，能夠節(jié)約很多的水資、人力和硫酸使用等離子體中的活性氧基團(tuán)與光刻膠反應(yīng)，也能夠使用等離子體中所存在的很多電子和離子對(duì)外表進(jìn)行修飾的作用，來改變基底外表的浸潤性和粗糙度。它超越了傳統(tǒng)，實(shí)現(xiàn)了更高深清洗效果。
